[뉴스엔뷰 동양경제] 2006년부터 방사능에 오염된 시설, 토양 등으로부터 방사성 물질을 제거하는 기술에 대한 특허출원이 증가세를 보이고 있다.

 

특허청 자료에 따르면, 최근 10년간 총 170건의 특허출원 중 2002년부터 2005년까지는 매년 9건이, 2006년부터 2011년까지는 매년 23건이 출원돼 2006년부터 방사성 물질 제거 기술에 대한 특허출원이 늘어난 것으로 나타났다.

 

출원건수는 기술 분야별로 보면, 기계적 방법 82건 (48%), 화학적 방법 66건 (39%), 전기화학적 방법 22건(13%) 순이다.

 

기계적 방법에 의한 방사능 물질 제거기술은 절삭공구를 이용하여 오염된 시설, 토양의 표면을 직접 깎아내는 것이고, 화학적 방법은 오염된 시설, 토양의 표면에 시약을 접촉시켜 화학반응을 일으킨 뒤 오염 물질을 분리하는 방법이다.

 

전기화학적 방법은 오염된 토양 등에 전극을 삽입하고 전류를 흘려 오염 물질을 분리하는 것으로 특히 2007년부터 2009년 사이에 내국인에 의해 많이 출원됐다.

 

출원인별로는 85%가 내국인(145건)인 것으로 나타나 우리나라가 상당한 기술력을 축적하고 있는 것으로 평가됐다.

 
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